Hochleistungs-Ultrakurzpulslaser haben in wissenschaftlichen und industriellen Anwendungen große Erfolge erzielt. Sie haben nicht nur einen enormen Einfluss auf viele Disziplinen der wissenschaftlichen Forschung, z. B. in der Biologie, Chemie, Physik, Materialwissenschaft und Medizin, sondern auch auf die Frequenzumwandlung, z. B. bei der Erzeugung von XUV-Strahlung, die Lithografie und die Metrologie in der Halbleiterindustrie gewinnen zunehmend an Bedeutung. Die Ausweitung der Grenzen moderner ultraschneller Lasersysteme auf diese fortschrittlichen Anwendungen ist derzeit ein Forschungsthema unserer Gruppe.
Unsere Bemühungen konzentrieren sich auf ultraschnelle Dünnscheiben-Oszillatoren. Die dünne Scheibengeometrie überwindet die Probleme der übermäßigen Wärmeablagerung im Verstärkungsmedium und der großen Nichtlinearität, die sich während der Ausbreitung der Pulse in Hochleistungssystemen ansammelt, und ermöglicht hohe Durchschnittsleistungen und Femtosekundenbetrieb direkt von einem einzigen Oszillator aus, ohne dass zusätzliche Verstärkungsstufen erforderlich sind. In unserer Gruppe arbeiten wir eng mit TRUMPF zusammen, um die Leistung und Energie von Scheibenlasern zu steigern, und streben nach neuen Durchbrüchen.